展會(huì)邀約｜與大立過濾并肩攻克，先進(jìn)制程微污染挑戰(zhàn)
更新時(shí)間：2026-10-09瀏覽：104次
芯片制造對(duì)流體潔凈度有著極高要求，微小顆粒與雜質(zhì)都會(huì)影響晶圓成品良率。在濕法清洗、CMP 研磨、光刻膠供給這些關(guān)鍵環(huán)節(jié)，流體過濾是守住產(chǎn)品品質(zhì)的重要一環(huán)。找到匹配產(chǎn)線工況的過濾方案，是很多半導(dǎo)體制造企業(yè)持續(xù)攻關(guān)的課題。
多年來大立持續(xù)深耕半導(dǎo)體流體凈化領(lǐng)域，依托成熟的產(chǎn)品、完善的驗(yàn)證能力與大量現(xiàn)場(chǎng)工藝經(jīng)驗(yàn)，為客戶提供整套過濾解決方案，助力產(chǎn)線穩(wěn)定運(yùn)行。
為此，大立過濾誠(chéng)邀行業(yè)同仁于2026 將于 10 月 14-16 日蒞臨深圳會(huì)展中心(福田)1M04A 展位交流指導(dǎo)。
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